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国际主流光刻机研发的最新进展
国际主流光刻机研发的最新进展
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摘要：
介绍了65 nm和45 nm节点国际主流光刻机的最新研发进展,重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术,讨论了目前各公司的主流机型及其性能参数,最后简要介绍了下一代光刻技术的研究进展.
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期刊影响力
激光与光电子学进展
主办单位：
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期：
半月刊
ISSN：
1006-4125
CN：
31-1690/TN
开本：
大16开
出版地：
上海市嘉定区清河路390号（上海市800-211信箱）
邮发代号：
4-179
创刊时间：
1964
语种：
chi
出版文献量（篇）
9127
总下载数（次）
28
总被引数（次）
35767
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